等離子刻蝕機，又叫等離子蝕刻機、等離子平面刻蝕機、等離子體刻蝕機、等離子表面處理儀、等離子清洗系統(tǒng)等。等離子刻蝕，是干法刻蝕中最常見的一種形式，其原理是暴露在電子區(qū)域的氣體形成等離子體，由此產生的電離氣體和釋放高能電子組成的氣體，從而形成了等離子或離子，電離氣體原子通過電場加速時，會釋放足夠的力量與表面驅逐力緊緊粘合材料或蝕刻表面。某種程度來講，等離子清洗實質上是等離子體刻蝕的一種較輕微的情況。進行干式蝕刻工藝的設備包括反應室、電源、真空部分。工件送入被真空泵抽空的反應室。氣體被導入并與等離子體進行交換。等離子體在工件表面發(fā)生反應，反應的揮發(fā)性副產物被真空泵抽走。等離子體刻蝕工藝實際上便是一種反應性等離子工藝。發(fā)展是在反應室的內部安裝成擱架形式，這種設計的是富有彈性的，用戶可以移去架子來配置合適的等離子體的蝕刻方法：反應性等離子體（RIE），順流等離子體（downstream），直接等離子體（direction plasma）。
等離子刻蝕機的優(yōu)勢：
等離子刻蝕機是利用高能電子轟擊氣體產生等離子體，利用其化學反應特性實現(xiàn)材料表面的加工。等離子體是一種帶電的氣體體系，其中電子、離子、原子和分子之間相互作用，從而產生各種化學反應。
等離子刻蝕機中的等離子體可以通過兩種方式產生，一種是射頻電渦流放電，另一種是微波功率放電。射頻電渦流放電是在射頻電場作用下，氣體加熱變成等離子體，放電工作穩(wěn)定，但是不能實現(xiàn)高密度等離子體。而微波功率放電則能產生更高密度、更強活性的等離子體，但是工作不太穩(wěn)定。
