咨詢熱線
13810961731
13810961731
追求合作共贏
Win win for you and me售前售中售后完整的服務(wù)體系
誠信經(jīng)營質(zhì)量保障價格合理服務(wù)貼心
當(dāng)前位置：首頁 > 產(chǎn)品展示 > > 多腔系統(tǒng) > 刻蝕系統(tǒng)
簡要描述：刻蝕系統(tǒng)三到六個端口傳送腔室可用于集成ICP等離子刻蝕機、RIE刻蝕機、原子層沉積系統(tǒng)、PECVD和ICPECVD沉積設(shè)備，以滿足研發(fā)的要求。樣品可以通過預(yù)真空室和/或真空片盒站加載。
產(chǎn)品型號：廠商性質(zhì)：經(jīng)銷商更新時間：2025-10-20訪 問 量：1730產(chǎn)品分類
Product Category詳細(xì)介紹
| 品牌 | 其他品牌 | 應(yīng)用領(lǐng)域 | 環(huán)保,化工,電子/電池 |
|---|
刻蝕系統(tǒng)介紹
高產(chǎn)量
等離子蝕刻和沉積腔體可以與多達(dá)兩個片盒站組合，用于到200 mm晶片的高產(chǎn)量工藝。
研發(fā)
三到六個端口傳送腔室可用于集成ICP等離子刻蝕機、RIE刻蝕機、原子層沉積系統(tǒng)、PECVD和ICPECVD沉積設(shè)備，以滿足研發(fā)的要求。樣品可以通過預(yù)真空室和/或真空片盒站加載。
刻蝕系統(tǒng)包括等離子刻蝕和/或沉積腔體、傳送腔室、預(yù)真空室或片盒站。傳送腔室包括傳送機械手臂，可適用于三至六個端口?？梢允褂枚噙_(dá)兩個片盒站來增加產(chǎn)量。傳送腔室可以配備多種選擇。
用于研發(fā)的SENTECH多腔系統(tǒng)通過圖形用戶界面控制軟件操作。*的控制軟件可用于工業(yè)領(lǐng)域高產(chǎn)量的多腔系統(tǒng)。
產(chǎn)品咨詢
